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CMP・ウェーハ洗浄

CMP用PVA洗浄ブラシ / CMP研磨パッド / CMPパッドコンディショナー / CMPスラリー / ウェーハ洗浄液. 価格、供給可否、仕様、納期は見積で確認します。

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価格は見積で確定参考画像Entegris Planarcore · CMP PVA Cleaning Brushes
SC-BRUSH-RFQ

Entegris Planarcore · CMP用PVA洗浄ブラシ

材質: PVA · 工程: CMP後洗浄 · 構成: コア一体成形

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最小発注数量 確認中供給納期 確認中
価格は見積で確定参考画像Qnity IC1000 · CMP Polishing Pads
SC-PAD-RFQ

Qnity IC1000 · CMP研磨パッド

グレード: IC1000 / IC1010 · 工程: Cu・W・STI・酸化膜

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最小発注数量 確認中供給納期 確認中
価格は見積で確定参考画像3M A165 · CMP Pad Conditioners
SC-CONDITIONER-RFQ

3M A165 · CMPパッドコンディショナー

材質: 304 SS · 寸法: 4.25 in (107.95 mm) · 表面・形状: 251 µmダイヤモンド

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最小発注数量 確認中供給納期 確認中
価格は見積で確定参考画像FUJIMI PLANERLITE 7000 · CMP Slurries
SC-SLURRY-RFQ

FUJIMI PLANERLITE 7000 · CMPスラリー

材質: コロイダルシリカ · 工程: CuダマシンCMP

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最小発注数量 確認中供給納期 確認中
価格は見積で確定参考画像Entegris PlanarClean AG · Wafer Cleaning Solutions
SC-CLEANER-RFQ

Entegris PlanarClean AG · ウェーハ洗浄液

工程: 銅CMP後洗浄 · 構成: 調合液

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最小発注数量 確認中供給納期 確認中