ウェーハ製造用消耗品

CMP・ウェーハ洗浄. 価格、供給可否、仕様、納期は見積で確認します。

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Entegris Planarcore · CMP用PVA洗浄ブラシ

材質: PVA · 工程: CMP後洗浄 · 構成: コア一体成形

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Qnity IC1000 · CMP研磨パッド

グレード: IC1000 / IC1010 · 工程: Cu・W・STI・酸化膜

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3M A165 · CMPパッドコンディショナー

材質: 304 SS · 寸法: 4.25 in (107.95 mm) · 表面・形状: 251 µmダイヤモンド

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FUJIMI PLANERLITE 7000 · CMPスラリー

材質: コロイダルシリカ · 工程: CuダマシンCMP

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Entegris PlanarClean AG · ウェーハ洗浄液

工程: 銅CMP後洗浄 · 構成: 調合液

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