SC-BRUSH-RFQ
Entegris Planarcore · Cepillos de limpieza PVA para CMP
Material: PVA · Proceso: Limpieza pos-CMP · Configuración: Moldeado a través del núcleo
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Consumibles para fabricación de obleas
CMP y limpieza de obleas. Precio, disponibilidad, configuración y entrega se confirman por cotización.
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SC-PAD-RFQ
Qnity IC1000 · Almohadillas de pulido CMP
Grado: IC1000 / IC1010 · Proceso: Cu / W / STI / óxido
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SC-CONDITIONER-RFQ
3M A165 · Acondicionadores de almohadillas CMP
Material: 304 SS · Dimensiones: 4.25 in (107.95 mm) · Superficie / forma: Diamante de 251 µm
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SC-SLURRY-RFQ
FUJIMI PLANERLITE 7000 · Suspensiones de pulido CMP
Material: Sílice coloidal · Proceso: CMP de Cu damasceno
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SC-CLEANER-RFQ
Entegris PlanarClean AG · Soluciones de limpieza de obleas
Proceso: Limpieza de Cu pos-CMP · Configuración: Solución formulada
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