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晶圆清洗液

用于铜 CMP 后清洗的配方清洗液。 价格、可供情况、具体配置及交期以询价确认为准。

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询价获取价格示意图Entegris PlanarClean AG · Wafer Cleaning Solutions
SC-CLEANER-RFQ

Entegris PlanarClean AG · 晶圆清洗液

适用工序: 铜 CMP 后清洗 · 结构: 配方溶液

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