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CMP 与晶圆清洗

CMP PVA 清洗刷 / CMP 抛光垫 / CMP 抛光垫修整器 / CMP 抛光液 / 晶圆清洗液. 价格、可供情况、具体配置及交期以询价确认为准。

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询价获取价格示意图Entegris Planarcore · CMP PVA Cleaning Brushes
SC-BRUSH-RFQ

Entegris Planarcore · CMP PVA 清洗刷

材料: PVA · 适用工序: CMP 后清洗 · 结构: 穿芯成型

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询价获取价格示意图Qnity IC1000 · CMP Polishing Pads
SC-PAD-RFQ

Qnity IC1000 · CMP 抛光垫

等级: IC1000 / IC1010 · 适用工序: 铜/钨/STI/氧化物

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询价获取价格示意图3M A165 · CMP Pad Conditioners
SC-CONDITIONER-RFQ

3M A165 · CMP 抛光垫修整器

材料: 304 SS · 尺寸: 4.25 in (107.95 mm) · 表面/形状: 251 µm 金刚石

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询价获取价格示意图FUJIMI PLANERLITE 7000 · CMP Slurries
SC-SLURRY-RFQ

FUJIMI PLANERLITE 7000 · CMP 抛光液

材料: 胶体二氧化硅 · 适用工序: 铜镶嵌 CMP

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询价获取价格示意图Entegris PlanarClean AG · Wafer Cleaning Solutions
SC-CLEANER-RFQ

Entegris PlanarClean AG · 晶圆清洗液

适用工序: 铜 CMP 后清洗 · 结构: 配方溶液

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